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兩級拋光裝置的模塊化設(shè)計可根據(jù)水質(zhì)需求靈活組合拋光單元適配不同產(chǎn)水量場景
時間:2025-04-22 來源:http://gz-wonder.com/news/312.html

    在純水制備領(lǐng)域,水質(zhì)純度直接關(guān)系到生產(chǎn)工藝的穩(wěn)定性和終端產(chǎn)品的質(zhì)量。兩級拋光裝置作為純水系統(tǒng)中的核心精處理單元,通過串聯(lián)式設(shè)計實現(xiàn)深度脫鹽與超純化,廣泛應用于半導體、生物醫(yī)藥、實驗室分析等對水質(zhì)要求嚴苛的行業(yè)。本文將簡析其技術(shù)原理、應用場景及優(yōu)勢。

純水系統(tǒng)工程.jpg

    技術(shù)原理與結(jié)構(gòu)

    兩級拋光裝置通常由離子交換樹脂床和反滲透(RO)后處理單元組合而成。第一級拋光以混合離子交換樹脂(如強酸/強堿樹脂)為核心,通過吸附和離子交換去除水中殘留的溶解性固體(TDS)、硅酸鹽及有機物;第二級拋光則采用超純化樹脂或電去離子(EDI)模塊,進一步降低電導率至0.055μS/cm以下,并去除痕量金屬離子和顆粒物。兩級結(jié)構(gòu)通過階梯式處理,實現(xiàn)從“粗純化”到“超純化”的過渡。

    應用場景

    半導體制造:晶圓清洗、光刻膠涂布等工序需使用18.2MΩ·cm的超純水,兩級拋光裝置可有效去除硅、硼等雜質(zhì),避免晶圓表面缺陷。

    生物醫(yī)藥:注射用水(WFI)制備中,需滿足USP/EP藥典標準,兩級拋光可確保微生物、內(nèi)毒素及顆粒物指標達標。

    實驗室分析:HPLC、ICP-MS等精密儀器需超低電導率水質(zhì),兩級拋光裝置可提供穩(wěn)定的水質(zhì)保障。

    核心優(yōu)勢

    高效脫鹽:離子交換樹脂的針對性設(shè)計可去除特定離子(如Fe3?、Ca2?),延長下游設(shè)備壽命。

    低TOC控制:第二級拋光可降低總有機碳(TOC)至5ppb以下,滿足生物制藥需求。

    自動化運行:集成在線監(jiān)測與再生系統(tǒng),減少人工干預,提升系統(tǒng)穩(wěn)定性。

    模塊化設(shè)計:可根據(jù)水質(zhì)需求靈活組合拋光單元,適配不同產(chǎn)水量場景。

    兩級拋光裝置通過深度凈化技術(shù),為高精度工藝提供了可靠的水質(zhì)支持。隨著半導體、生物醫(yī)藥等行業(yè)的快速發(fā)展,其技術(shù)迭代將進一步推動純水制備向更高純度、更低成本的方向演進。

    

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